【射频离子源简介】：国泰真空射频离子源GTRF-17和GTRF-23，主要用于IR-Cut、滤光片等精密光学镀膜的离子束辅助沉积和离子束清洗等，是公司技术团队全自主研发近3年时间研发出的国产射频离子源，属于国内大直径射频离子源。打破了国外制造商长期对国产镀膜行业的技术封锁，同时也激励了国内的同行制造业。离子源设备能促进光电产业升级，在国内也是一项“卡脖子”技术。具有能量高、热辐射低、工作时间长、对膜层污染小、能量分布均匀性好、适应多种工作气体的特点。真空镀膜机故障解决方法？安徽离子束刻蚀射频离子源专业生产

【真空镀膜机有哪些污染源】真空镀膜机是由许多精密的零部件所组成的，这些零部件均经过许多机械加工流程而制作出来，如焊接、磨、车、刨、镗、铣等工序。正因为有了这些工作，导致设备零部件表面不可避免地会沾染一些加工带来的油脂、油垢、金属屑、焊剂、抛光膏、汗痕等污染物。这些污染物在真空条件下易挥发，从而对设备的极限真空造成影响。此外，这些机械加工带来的真空污染物在da气压环境中吸附da量的气体，而到了真空状态下，这些原先吸附的气体也会被再次释放出来，成为限制真空系统的极限真空的一da主要因素。1、真空规管的灯丝在高温条件下蒸发，将导致陶瓷绝缘子上形成一层薄膜，对其绝缘强度有一定的损坏，对其测量的准确性也有一定的影响；2、由于高温蒸发，会使真空中的电子qiang的灯丝附近表面形成一层金属膜；3、由于工件溅射，离子束刻蚀设备的内壁会被溅散物所污染；4、真空蒸发镀膜设备的内壁会被其蒸镀靶材材料污染；5、经常使用真空干燥系统，该系统会受蒸发出来的物质所污染；6、真空镀膜设备中的扩散泵油、机械泵油等更是一da主要污染来源，镀膜机长期工作后，设备内部可能会形成一层油膜。河南大直径射频离子源制造生产真空镀膜机是什么样的？

【真空镀膜机真空检漏方法之静态升压法】静态升压法属于真空检漏法中的一种，也是简单易行的真空系统检漏方法，因为它不需要用额外特殊的仪器或者特殊物质，通过测量规管就可以检测真空系统的总漏率，从而确定真空系统或部件是否满足工作要求。虽然胜在简单，但也存在局限。如果真空系统或容器存在漏孔的话，静态升压法是无法确定漏孔所在的。因此在确定系统是否有漏孔的同时还需要确定其位置的话，就需要配合其他方法来进行了。静态升压法的操作只要将被检容器抽空至相应的压力范围，再关闭阀门，隔离真空泵与真空容器，然后用真空计测量记录真空容器中压力随时间的变化过程，即可得出泄漏数据。《真空系统抽气达不到工作压力有哪些原因》中，螺杆真空泵厂家介绍的判断方法即是通过静态升压法实现的，比较方便。当然在应用过程中，要提高准确性就要减少其他因素干扰，需要在检测之前对容器进行净化清洗并烘干，或者用氮气进行冲洗。更严格一点可以在测量规管与容器之间设置冷阱，处理释放的可凝气体，而对可能存在的漏孔所漏进的空气不会造成影响。

【溅镀工艺的原理】以几十电子伏特或更高动能的荷电粒子轰击材料表面，使其溅射出进入气相，可用来刻蚀和镀膜。入射一个离子所溅射出的原子个数称为溅射产额(Yield)产额越高溅射速度越快，以Cu,Au,Ag等高，Ti,Mo,Ta,W等低。一般在0.1-10原子/离子。离子可以直流辉光放电(glowdischarge)产生，在10-1—10Pa真空度，在两极间加高压产生放电，正离子会轰击负电之靶材而溅射也靶材，而镀至被镀物上。正常辉光放电(glowdischarge)的电流密度与阴极物质与形状、气体种类压力等有关。溅镀时应尽可能维持其稳定。任何材料皆可溅射镀膜，即使高熔点材料也容易溅镀，但对非导体靶材须以射频（RF）或脉冲（pulse）溅射；且因导电性较差，溅镀功率及速度较低。金属溅镀功率可达10W/cm2,非金属＜5W/cm2。真空镀膜机的产业集群。

【真空镀膜的分类】真空镀膜的镀层结构一般为：基材、底漆、真空膜层、面漆，因靶材理化特性直接决定膜层的特性，根据膜层的导电与否，可分为导电真空镀膜（VM）和不导电真空镀膜（NCVM）两种。VM：一般用在化妆品类、NB类、3C类、汽配类按键、装饰框、按键RING类饰品的表面处理，其表面效果与水电镀相媲美，靶材一般为铝、铜、锡、金、银等。NCVM：具有金属质感、透明，但不导电，一般用在通讯类、3C类对抗扰要较高的机壳、装饰框、按键件、RING类饰品的表面处理，其表面效果为水电镀不可取代，靶材一般为铟、铟锡。三、扩散泵连续使用6个月以上，抽的速度会显然变慢，当操作不当应拆去联结水管，卸下电炉盘，将一级喷嘴拧出，先用汽油将泵腔及泵胆清洗一遍，再用洗衣粉兑水清洗一遍，然后用清水彻底清洗干净，待水份挥发干以后，装好泵胆，加入新扩散泵油，并装回机体，接好水管，装好电炉盘，便可以重新开机。真空镀膜机的主要应用。安徽离子束刻蚀射频离子源专业生产

离子真空镀膜机是什么？安徽离子束刻蚀射频离子源专业生产

国泰真空射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同国泰射频离子源采用通用的LC高频谐振原理，使用可调电容快速调谐，使整个负载阻抗匹配到50Ώ，从而使功率输出比较大，电离化效率比较高，调谐马达采用步进电机转位+编码器快速定位，并带锁止和记忆功能，以满足负载在不同的真空环境、不同阻抗快速点火。射频部分匹配采用了硬件反馈和软件提前记忆并预判的技术；直流引入快速灭弧技术，同时提高了射频和直流部分的稳定性，软件设置了自检和自诊断功能，即：使用前系统自检，使用中即时刷新，对非调整性输入的变化提前警报并告知客户做好预案。安徽离子束刻蚀射频离子源专业生产

成都国泰真空设备有限公司是一家集生产科研、加工、销售为一体的高新技术企业，公司成立于2012-06-26，位于成都海峡两岸科技产业开发园科林西路618号。公司诚实守信，真诚为客户提供服务。公司业务不断丰富，主要经营的业务包括：光学镀膜设备，真空镀膜设备，光学真空镀膜机，红外镀膜设备等多系列产品和服务。可以根据客户需求开发出多种不同功能的产品，深受客户的好评。锦成国泰严格按照行业标准进行生产研发，产品在按照行业标准测试完成后，通过质检部门检测后推出。我们通过全新的管理模式和周到的服务，用心服务于客户。在市场竞争日趋激烈的现在，我们承诺保证光学镀膜设备，真空镀膜设备，光学真空镀膜机，红外镀膜设备质量和服务，再创佳绩是我们一直的追求，我们真诚的为客户提供真诚的服务，欢迎各位新老客户来我公司参观指导。

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